(相关资料图)
再创历史新高！
营业收入同比增长52.5%
扣非净利润为大涨183.44%
非经常性损益一定程度上压制了利润端表现
真实盈利水平实际上提升幅度较为明显
从利润驱动来看
受益于产品结构改善、毛利率上升
同时规模效应下期间费用率下降
为何非经常性收益急剧收缩？
政府补助收益、股权投资收益大幅减少
从主营业务来看
ICP与CCP刻蚀设备业务高速发展
MOCVD设备扩展迅猛
从新品开发来看
积极布局极高深宽比刻蚀设备
LPCVD薄膜设备
EPI外延设备和多种MOCVD设备
从行业现状来看
等离子体刻蚀设备越来越成为卡脖子的设备
制程步骤最多、工艺过程开发难度最高（除光刻机）
占半导体前道设备总市场约25%。
从二级市场来看
近期股价对业绩快报中释放的积极信号反应平淡
半导体市场下行周期叠加海外供应风险
晶圆厂设备采购放缓
半年内股价跌幅已达26%
